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Waschen und Polieren: Ein einfaches lösungsbasiertes Verfahren führt über eine spontane hierarchische Aggregation zu Mikroanordnungen eines Naphthalindiimid‐Derivats. Mithilfe dieser Methode wurden weiterhin selbstreinigende Oberflächen mit sehr kleinem Abgleitwinkel (3°) und sehr kleiner Hysterese für den Kontakwinkel (1°) erhalten.

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Autoren:   M. B. Avinash, Elisabeth Verheggen, Carsten Schmuck, T. Govindaraju
Journal:   Angewandte Chemie
Jahrgang:   2012
Seiten:   n/a
DOI:   10.1002/ange.201204608
Erscheinungsdatum:   11.09.2012

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