Überall dort, wo sich in Industrie oder Wissenschaft besonders hohe Anforderungen in der Elementanalytik stellen, spielt das SPECTRO ARCOS ICP-OES seine Überlegenheit aus. Ob bei der Elementanalytik von Metallen, bei der Untersuchung chemischer und petrochemischer Substanzen oder in der Umweltanalytik: Wenn es auf höchste Empfindlichkeit und höchste Präzision ankommt, ist das SPECTRO ARCOS das Gerät der Wahl.
Mit der Periskop-freien MultiView-Option hat das SPECTRO ARCOS den Geräte-Grundaufbau fundamental verändert. In weniger als 90 Sekunden lässt sich die Plasma-Betrachtungsrichtung ändern. Von radial nach axial oder umgekehrt. MultView beinhaltet nun auch die Dual Side-on Plasmabetrachtung. Zwei optische Schnittstellen erhöhen die Nachweisempfindlichkeit und beseitigen Probleme mit Verunreinigungen und Matrixkompatibilität.
Auf CMOS-Technologie basierende Zeilendetektoren eliminieren „Blooming“ und ermöglichen die Erfassung kleiner Messsignale, selbst in direkter Nähe intensiver Linien. Sie bieten einen großen Dynamikbereich und benötigen keine Chipkühlung.