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Seit 1962 produziert und verkauft KNF Neuberger Membranpumpen und Systeme weltweit. Die KNF-Membranpumpen und Systeme fördern, verdichten, evakuieren und dosieren neutrale bis hochaggressive Gase, Dämpfe oder Flüssigkeiten unverfälscht. Zum Einsatz kommen die KNF-Membranpumpen z.B. in der Chemische mehr
Die ProMinent Unternehmensgruppe ist seit über 55 Jahren Hersteller von Komponenten und Systemen für das Dosieren von flüssigen Stoffen sowie zuverlässiger Lösungspartner für die Wasseraufbereitung. Mit innovativen Produkten, ausgeprägter verfahrenstechnischer Expertise und Anwendungsorientierung we mehr
RÜTSCHI PUMPEN FÜR DIE INDUSTRIE Standard und massgeschneiderte Kreiselpumpen in hoher Qualität für: - Chemische Industrie - Petrochemishe Industrie - Allgemeine Industrie - Konventionnelle Kraftwerke - Kernkraftwerke GRUPPE RUTSCHI, ein starker Begriff für Pumpen mit Wellenabdichtung und ihr Spe mehr
Mit der VAC 24seven Reihe sind jetzt erstmals die seit Jahrzenten im Labor bewährten Chemie-Membranvakuumpumpen auch für den Pilot- und Technikumsmaßstab verfügbar mehr
Die neue extrem robuste und zuverlässige Dosierpumpe Orlita® Evolution setzt ein neues Maß an Prozesssicherheit und Flexibilität. Sie erfüllt höchste Ansprüche in der Chemischen Industrie mehr
Die zur KSB-Gruppe gehörende spanische KSB ITUR erhielt den Auftrag zur Lieferung von 57 Kühlpumpen für den Bau des Teilchenbeschleunigers „Synchrotron Alba“. Dabei handelt es sich um Prozesspumpen mit einer maximalen Fördermenge von je 646 m3/h und einer höchsten Förderhöhe von 134 Metern. Die Ges mehr
Die beiden größten Hochdruck-Prozess-Membranpumpen kommen vom technischen Weltmarktführer für Membran-Pumpentechnologie LEWA Herbert Ott GmbH + Co KG. Jede Pumpe fördert 110 m3/h flüssiges CO2 gegen einen Druck von 215 bar. Sie werden zur CO2 Reinjektion in ein Erdgasfeld in Hammerfest/Norwegen eing mehr
Mit der VAC 24seven Reihe sind jetzt erstmals die seit Jahrzehnten im Labor bewährten Chemie-Membranvakuumpumpen auch für den Pilot- und Technikumsmaßstab verfügbar. Für Anwendungen mit aggressiven Gasen und kondensierbaren Dämpfen wird sauberes Vakuum, frei von Betriebsmitteln und möglichen Kontami mehr
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